蔵書情報
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書名 |
世界をリードする半導体共同研究プロジェクト
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著者名 |
垂井 康夫/編著
|
著者名ヨミ |
タルイ ヤスオ |
出版者 |
工業調査会
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出版年月 |
2008.12 |
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資料情報
各蔵書資料に関する詳細情報です。
No. |
所蔵館 |
資料番号 |
請求記号 |
所蔵場所 |
配架場所 |
帯出区分 |
状態 |
貸出
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1 |
ミライon | 1117341895 | 549.8/タ-08/ | 3F | 閉架図書 | 帯出可 | 在庫 |
○ |
書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
書誌種別 |
図書(一般) |
著者名 |
垂井 康夫/編著
|
著者名ヨミ |
タルイ ヤスオ |
出版者 |
工業調査会
|
出版年月 |
2008.12 |
ページ数 |
318p 図版3枚 |
大きさ |
21cm |
ISBN |
4-7693-1277-2 |
分類記号 |
549.8
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書名 |
世界をリードする半導体共同研究プロジェクト |
書名ヨミ |
セカイ オ リード スル ハンドウタイ キョウドウ ケンキュウ プロジェクト |
副書名 |
日本半導体産業復活のために |
副書名ヨミ |
ニホン ハンドウタイ サンギョウ フッカツ ノ タメ ニ |
内容紹介 |
通産省が1975〜1980年に行ったプロジェクト「超LSI共同研究所」とそれ以降の主な研究プロジェクトをレビュー。特に製造装置に重点をおいた効果を考え、その後の研究にどのように生かされてきたかなどを検証する。 |
内容細目
No. |
内容タイトル |
内容著者1 |
内容著者2 |
内容著者3 |
内容著者4 |
1 |
超LSI共同研究所 |
垂井 康夫/著 |
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2 |
SEMATECH |
鴨志田 元孝/著 |
三浦 義男/著 |
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3 |
IMEC |
赤城 三男/著 |
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4 |
オルバニーナノテク |
鴨志田 元孝/著 |
三浦 義男/著 |
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5 |
あすか(ASUKA)プロジェクト |
禿 節史/著 |
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6 |
半導体先端テクノロジーズ(Selete) |
相崎 尚昭/著 |
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7 |
半導体理工学研究センター(STARC) |
禿 節史/著 |
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8 |
先端SoC基盤技術開発(ASPLA) |
禿 節史/著 |
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9 |
超先端電子技術開発機構(ASET) |
赤城 三男/著 |
相崎 尚昭/著 |
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10 |
半導体MIRAIプロジェクト |
赤城 三男/著 |
相崎 尚昭/著 |
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11 |
HALCAプロジェクト |
溝渕 裕三/著 |
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12 |
DIINプロジェクト |
溝渕 裕三/著 |
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13 |
極端紫外線露光システム技術開発機構(EUVA) |
赤城 三男/著 |
相崎 尚昭/著 |
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