蔵書情報
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書名 |
よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み 第4版(図解入門)
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著者名 |
佐藤 淳一/著
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著者名ヨミ |
サトウ ジュンイチ |
出版者 |
秀和システム
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出版年月 |
2020.9 |
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資料情報
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No. |
所蔵館 |
資料番号 |
請求記号 |
所蔵場所 |
配架場所 |
帯出区分 |
状態 |
貸出
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1 |
ミライon | 1212038980 | 549.8/サ-20/ | 3F | 開架図書 | 帯出可 | 在庫 |
○ |
書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
書誌種別 |
図書(一般) |
著者名 |
佐藤 淳一/著
|
著者名ヨミ |
サトウ ジュンイチ |
出版者 |
秀和システム
|
出版年月 |
2020.9 |
ページ数 |
255p |
大きさ |
21cm |
ISBN |
4-7980-6245-7 |
分類記号 |
549.8
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書名 |
よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み 第4版(図解入門) |
書名ヨミ |
ヨク ワカル サイシン ハンドウタイ プロセス ノ キホン ト シクミ |
副書名 |
シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰 |
副書名ヨミ |
シリコン ガ ハンドウタイ ニ ナル セイゾウ コウテイ オ フカン |
内容紹介 |
ウェーハから半導体ファブ、前工程、後工程まで、半導体のプロセスの全てを俯瞰できるように、わかりやすいイメージの図や表を交えて解説。歴史的経緯にもふれる。新章「CMOSのプロセスフロー」を加えた第4版。 |
著者紹介 |
京都大学大学院工学研究科修士課程修了。テクニカルライターとして活動。応用物理学会員。著書に「よくわかる最新半導体製造装置の基本と仕組み」など。 |
内容細目
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