蔵書情報
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書名 |
フォトポリマーの基礎と応用 (CMCテクニカルライブラリー)
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著者名 |
山岡亜夫/監修
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著者名ヨミ |
ヤマオカ ツグオ |
出版者 |
シーエムシー出版
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出版年月 |
2003.3 |
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資料情報
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No. |
所蔵館 |
資料番号 |
請求記号 |
所蔵場所 |
配架場所 |
帯出区分 |
状態 |
貸出
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1 |
ミライon | 1115642064 | 578.4/フ-03/ | 3F | 閉架図書 | 帯出可 | 在庫 |
○ |
書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
書誌種別 |
図書(一般) |
著者名 |
山岡亜夫/監修
|
著者名ヨミ |
ヤマオカ ツグオ |
出版者 |
シーエムシー出版
|
出版年月 |
2003.3 |
ページ数 |
336p |
大きさ |
21cm |
ISBN |
4-88231-787-7 |
分類記号 |
578.4
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書名 |
フォトポリマーの基礎と応用 (CMCテクニカルライブラリー) |
書名ヨミ |
フォトポリマー ノ キソ ト オウヨウ |
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初版の書名:実用高分子レジスト材料の新展開 |
内容紹介 |
フォトポリマーが広く使用され始めて既に40年が過ぎ、精密加工・微細加工のキーテクノロジーとしての地位を確立しているが、最近では新しい局面に立ち至っている…。97年刊「実用高分子レジスト材料の新展開」の普及版。 |
内容細目
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