検索結果書誌詳細

  • 貸出中の資料は予約できます。（一部を除きます）
    「在庫」及び「要取寄」の資料は受取館と所蔵館が同じ場合は予約できません。

蔵書情報

この資料の蔵書に関する統計情報です。現在の所蔵数 在庫数 予約数などを確認できます。

所蔵数 1 在庫数 1 予約数 0

　

書名

入門フォトマスク技術　

著者名 田邉功／著
著者名ヨミ タナベ イサオ
出版者 工業調査会
出版年月 2006.12

この資料に対する操作

カートに入れる を押すと この資料を 予約する候補として予約カートに追加します。

いますぐ予約する を押すと 認証後この資料をすぐに予約します。

この資料に対する操作

電子書籍を読むを押すと 電子図書館に移動しこの資料の電子書籍を読むことができます。

登録するリストログインメモ

資料情報

各蔵書資料に関する詳細情報です。

No. 所蔵館 資料番号 請求記号 所蔵場所 配架場所 帯出区分 状態 貸出
1 ミライｏｎ1116721744549.7/ﾆ-06/３F閉架図書帯出可在庫  ○

書誌詳細

この資料の書誌詳細情報です。

書誌種別 図書（一般）
著者名 田邉功／著 　 竹花洋一／著 　 法元盛久／著
著者名ヨミ タナベ イサオ　タケハナ ヨウイチ　ホウガ モリヒサ
出版者 工業調査会
出版年月 2006.12
ページ数 323p
大きさ 21cm
ISBN 4-7693-1259-8
分類記号 549.7
書名 入門フォトマスク技術　
書名ヨミ ニュウモン フォトマスク ギジュツ
副書名 LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマスク
副書名ヨミ エルエスアイ エフピーディー ピーダブリュービー メムス ノ タメ ノ フォト マスク
欧文タイトル:Introduction to Photomask Technology
内容紹介 半導体ならびに電子部品分野の技術に関係している方々を対象に、マスク技術に関する基本的な項目、内容を網羅した参考書。半導体デバイスのみならず、FPDとPWB、ならびにMEMSで使用されるマスクについても記述。
著者紹介 千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻卒業。(有)ITコンサルティング代表取締役社長。



内容細目

前のページへ
このページの先頭へ トップページへ

本文はここまでです。

ページの終わりです。